北崎供應(yīng) EBARA 荏原 G5-500 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

北崎供應(yīng) EBARA 荏原 G5-500 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

規(guī)范

型	單位	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法		燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式
*進氣量	升/分鐘	350	500	600	1200
燃料		城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇
大小	寬 x 深 x 高 mm	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 1,100 x 2,000	1,200 x 1,100 x 2,200
可處理氣體示例		工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
標準設(shè)備		除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀
選擇		市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置

產(chǎn)品介紹

北崎8年，日本會社20年，專注領(lǐng)域如下：
儀器相關(guān)：
山高SANKO（代理）、東機產(chǎn)業(yè)TOKI（代理）、索尼克SONIC（代理）、東日技研DIT（代理）、杉山電機SUGIYAMA（代理）、愛安德AND(廠家合作）、飯島電子IIJIMA、東麗TORAY、共和KYOWA、愛安德AND、豪雅HOYA（代理）
備件設(shè)備相關(guān)：
柴田SIBATA(代理）、 壺坂TSUBOSAKA（代理）、雅馬拓YAMATO、新光NEWKON（代理）、武藏MUSASHI（代理）、尼得科NIDEC（代理）、MRM(代理）、坂口電熱SAKAGUCHI（代理）、岡崎OKAZAKI、椿本TUSBAKI（廠家合作）、山本鍍金YAMAMOTO、馳卡沙TSUKASA、朝日分光ASAHI、東機理化EYELA、科庫森KOKUSAN
光源相關(guān)：
巖崎EYE（代理）、日森SEN（代理）、晰寫速CCS（代理）、萊寶克斯REVOX（代理）、索萊克SERIC(代理）、普拉瑞POLARION、船越龍FUNATECH、牛尾USHIO、艾泰克ATIEC、山田YAMADA、拓普康TOPCON、歐阿希ORC、賽納SENA、英富麗INFLIDGE
電氣控制：
SIEMENS西門子（廠家合作）、MITSUBISHI三菱，OMRON歐姆龍（廠家合作）、基恩士KEYENCE（廠家合作）

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